玻(bo)璃該怎么(me)拋(pao)光呢(ni)？目前(qian)玻(bo)璃常用的(de)拋(pao)光方法有以(yi)下幾種：

1.機械拋光(guang)  

 機械拋(pao)光(guang)(guang)是(shi)靠切(qie)削、材料表(biao)面(mian)(mian)塑(su)性變形去掉被拋(pao)光(guang)(guang)后的(de)(de)(de)凸部而得到平滑面(mian)(mian)的(de)(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)， 一(yi)般使用(yong)(yong)油(you)石條、羊毛輪(lun)、砂紙等，以手工(gong)(gong)操作(zuo)為主，特(te)殊零件(jian)如回(hui)轉體表(biao)面(mian)(mian)，可(ke)使用(yong)(yong)轉臺(tai)等輔助工(gong)(gong)具(ju)，表(biao)面(mian)(mian)質量要求高的(de)(de)(de)可(ke)采用(yong)(yong)超精研拋(pao)的(de)(de)(de)方(fang)法(fa)(fa)(fa)。超精研拋(pao)是(shi)采用(yong)(yong)特(te)制的(de)(de)(de)磨(mo)具(ju)，在含有磨(mo)料的(de)(de)(de)研拋(pao)液中，緊壓在工(gong)(gong)件(jian)被加工(gong)(gong)表(biao)面(mian)(mian)上(shang)，作(zuo)高速旋轉運動(dong)。利(li)用(yong)(yong)該技術可(ke)以達到Ra0.008 μ m  的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)(mian)粗糙度(du)，是(shi)各種拋(pao)光(guang)(guang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)中高的(de)(de)(de)。光(guang)(guang)學鏡片模具(ju)常采用(yong)(yong)這種方(fang)法(fa)(fa)(fa)。

2.化學拋(pao)光  

 化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光(guang)是讓材料在化(hua)學(xue)介質中表面(mian)微(wei)觀凸出的(de)(de)部分(fen)較凹(ao)部分(fen)優先溶解，從而得到平滑面(mian)。這種方(fang)法的(de)(de)主要優點是不需復雜(za)(za)設備，可(ke)以拋(pao)(pao)光(guang)形狀復雜(za)(za)的(de)(de)工件，可(ke)以同時拋(pao)(pao)光(guang)很多(duo)工件，效率高(gao)。化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光(guang)的(de)(de)核心(xin)問題是拋(pao)(pao)光(guang)液的(de)(de)配(pei)制(zhi)。化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光(guang)得到的(de)(de)表面(mian)粗糙(cao)度一般為(wei)數10 μ m 。

3.電(dian)解拋光

 電解(jie)拋光(guang)基(ji)本原理與(yu)化(hua)學拋光(guang)相(xiang)同，即靠選擇性(xing)的溶解(jie)材(cai)料表面微(wei)(wei)小凸出(chu)部分，使表面光(guang)滑。與(yu)化(hua)學拋光(guang)相(xiang)比，可以(yi)消陰極反應的影響(xiang)，效果較好。電化(hua)學拋光(guang)過程分為兩步：（1 ）宏觀整平(ping)溶解(jie)產物(wu)向電解(jie)液(ye)中擴(kuo)散，材(cai)料表面幾何粗糙下降，Ra ＞1 μ m 。 （2 ）微(wei)(wei)光(guang)平(ping)整陽(yang)極極化(hua)，表面光(guang)亮(liang)度提高，Ra ＜1 μ m 。  

4.超聲(sheng)波拋光(guang)  

 將工(gong)件(jian)(jian)放入(ru)磨料懸(xuan)浮液中并一起置(zhi)于超聲波(bo)場中，依靠超聲波(bo)的(de)(de)振(zhen)蕩(dang)作用，使磨料在工(gong)件(jian)(jian)表(biao)面磨削拋光(guang)。超聲波(bo)加工(gong)宏觀力小，不會(hui)引(yin)起工(gong)件(jian)(jian)變形，但工(gong)裝制(zhi)作和(he)安(an)裝較困難。超聲波(bo) 加工(gong)可以與(yu)化學或電化學方(fang)法結合。在溶液腐蝕(shi)、電解的(de)(de)基(ji)礎上，再施加超聲波(bo)振(zhen)動攪拌溶液，使工(gong)件(jian)(jian)表(biao)面溶解產物脫離(li)，表(biao)面附(fu)近的(de)(de)腐蝕(shi)或電解質均勻；超聲波(bo)在液體中的(de)(de)空化作用還能夠抑制(zhi)腐蝕(shi)過程，利于表(biao)面光(guang)亮化。

5.流體拋光  

 流(liu)體(ti)(ti)拋(pao)光(guang)是(shi)依靠(kao)高(gao)速(su)流(liu)動的(de)液體(ti)(ti)及其攜帶的(de)磨(mo)粒(li)沖刷工(gong)(gong)件表面(mian)達(da)到拋(pao)光(guang)的(de)目的(de)。常用方法有：磨(mo)料(liao)噴射(she)加(jia)工(gong)(gong)、液體(ti)(ti)噴射(she)加(jia)工(gong)(gong)、流(liu)體(ti)(ti)動力(li)研磨(mo)等(deng)。流(liu)體(ti)(ti)動力(li)研磨(mo)是(shi)由(you)液壓(ya)驅動，使攜帶  磨(mo)粒(li)的(de)液體(ti)(ti)介質(zhi)高(gao)速(su)往(wang)復流(liu)過工(gong)(gong)件表面(mian)。介質(zhi)主要采(cai)(cai)用在較低(di)壓(ya)力(li)下流(liu)過性好的(de)特殊化合(he)物（聚(ju)合(he)物狀物質(zhi)）并(bing)摻上磨(mo)料(liao)制成(cheng)，磨(mo)料(liao)可采(cai)(cai)用碳化硅粉末(mo)。

6.磁研磨(mo)拋光  

 磁(ci)研磨(mo)拋(pao)光(guang)(guang)是利用磁(ci)性磨(mo)料在磁(ci)場作(zuo)用下形(xing)成磨(mo)料刷，對工(gong)件(jian)磨(mo)削加(jia)工(gong)。這種方法加(jia)工(gong)效率高，質量好(hao)，加(jia)工(gong)條件(jian)容易(yi)控制，工(gong)作(zuo)條件(jian)好(hao)。采用合適的(de)(de)(de)磨(mo)料，表(biao)面(mian)(mian)粗糙度(du)可(ke)以達到Ra0.1 μ m 。在塑料模(mo)具加(jia)工(gong)中所(suo)(suo)說(shuo)的(de)(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)與其(qi)他行業(ye)中所(suo)(suo)要求(qiu)(qiu)的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)(mian)拋(pao)光(guang)(guang)有很大的(de)(de)(de)不(bu)同(tong)，嚴格來說(shuo)，模(mo)具的(de)(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)應該稱為鏡面(mian)(mian)加(jia)工(gong)。它不(bu)僅對拋(pao)光(guang)(guang)本身有很高的(de)(de)(de)要求(qiu)(qiu)并且(qie)對表(biao)面(mian)(mian)平整度(du)、光(guang)(guang)滑度(du)以及幾何度(du)也有很高的(de)(de)(de)標準。表(biao)面(mian)(mian)拋(pao)光(guang)(guang)一般只要求(qiu)(qiu)獲(huo)得光(guang)(guang)亮的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)(mian)即可(ke)。

 玻璃鏡(jing)(jing)面加(jia)工的(de)(de)標準分為四級：AO=Ra0.008 μ m ，A1=Ra0.016 μ m ，  A3=Ra0.032 μ m ，A4=Ra0.063 μ m ，由(you)于電解拋(pao)光(guang)、流體拋(pao)光(guang)等方法很難、控(kong)制零件的(de)(de)幾何，而化學拋(pao)光(guang)、超聲波拋(pao)光(guang)、磁研磨(mo)拋(pao)光(guang)等方法的(de)(de)表面質(zhi)量又(you)達不到(dao)要求，所(suo)以(yi)精密模具的(de)(de)鏡(jing)(jing)面加(jia)工還是以(yi)機(ji)械拋(pao)光(guang)為主。